From iwamuro@kusastro.kyoto-u.ac.jp Mon Sep  1 15:26:58 2003
Date: Tue, 02 Sep 2003 10:26:54 +0900 (JST)
From: Fumihide Iwamuro <iwamuro@kusastro.kyoto-u.ac.jp>
Subject: Re: OH lines
To: akiyama@subaru.naoj.org
Cc: maihara@kusastro.kyoto-u.ac.jp, naoyuki.tamura@durham.ac.uk,
 ohta@kusastro.kyoto-u.ac.jp
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Content-Length: 1871

岩室です。

>>1.0 ミクロンより少し短いところにある一番強いラインは
>>消しておいたらいいのではないかと思いますが
>>（この波長域だと開口率も高いですし。）
>>あとは劇的に変わるわけでもないのでお任せします。

以下の８本のマスクを追加しました。

OH(3-0)R1(2)    0.97020
OH(3-0)Q1(2)    0.98024
OH(3-0)P2(3)    0.98975
OH(9-5)R1(1)    0.99593
OH(9-5)R1(2)    0.99493
OH(6-2)Q1(1)    0.83469
OH(7-3)P1(2)    0.88883
OH(7-3)P1(4)    0.89605

http://www.kusastro.kyoto-u.ac.jp/~iwamuro/TMP2/
の、README, fmosmask*, maskcalc.dat を差し換えました。

>>マスクの幅はラインの強度ごとに変えたりはしないんでしょうか？

光学系の性能が良ければ、0.4mm のマスクで(fiber の実像は0.27mm)
明るい輝線も十分隠せると思います。逆に、暗い輝線に対しては
もう少し細くしてもいいかもしれませんが、マスクの強度や輝線波長の
モデル精度や加工上の精度等を考えると、余り細すぎない方が無難です。
以上を考えれば 0.4mm というのはそれほど悪くない値かと思います。

現在のマスク開口率は

波長    開口率   輝線数
0.8-0.9 0.957650 5
0.9-1.0 0.884834 14
1.0-1.1 0.777706 29
1.1-1.2 0.802261 26
1.2-1.3 0.698969 46
1.3-1.4 0.840996 24
1.4-1.5 0.732419 42
1.5-1.6 0.763330 39
1.6-1.7 0.795633 32
1.7-1.8 0.806415 31
1.8-1.9 0.827009 24
--------------------
0.9-1.8 0.788328 283

で、前回の 79.7% より 1% 程低下しています。これは、今回の 5 本
(他の 3 本は 0.9μm 以下で、開口率の定義域外です)を新たに追加した
事に加え、加工するときに開けられる穴の最小幅を 0.2mm から 0.3mm に
変更した(0.2-0.3mm の非常に細い穴は埋まってしまった)ためです。

http://www.kusastro.kyoto-u.ac.jp/~iwamuro/TMP2/fmosmask3.dwg
(イメージは fmosmask3.gif)

を元にとりあえずエッチング方式でマスクを試作しようと思います。

http://www.subaru.naoj.org/staff/akiyama/FMOS/maskcheck0.jpg